Title: Elektronenmikroskopische Untersuchungen an aufgedampften Nickelfilmen
Abstract:Ni-Filme von ca. 3 μ, 1,5 μ und 120 bis 560 A Schichtdicke werden im Ultrahochvakuum auf Duranglasplatten bei 293° oder 77°K aufgedampft und ihre Oberfläche im Abdruckverfahren im Elmiskop I abgebilde...Ni-Filme von ca. 3 μ, 1,5 μ und 120 bis 560 A Schichtdicke werden im Ultrahochvakuum auf Duranglasplatten bei 293° oder 77°K aufgedampft und ihre Oberfläche im Abdruckverfahren im Elmiskop I abgebildet. Von den dünnen Filmen werden gleichzeitig Durchstrahlungsaufnahmen hergestellt. Die Abhängigkeit der Struktur und der Korngröße von Aufdampf- und Temperungstemperatur wird ermittelt. Die Kristallite werden an der Außenseite im allgemeinen durch Würfel- und Oktaederflächen begrenzt, die häufig parallel zur Filmoberfläche liegen. Von einer Temperungstemperatur von 100°C ab zeigen die Kristallite der bei 77°K aufgedampften Ni-Filme die Tendenz, durch Zusammenwachsen große Kristallite zu bilden. Je dünner der bei 77° oder 293°K aufgedampfte Film ist, um so kleiner sind die beobachteten Kristallite. Die Kontrastverhältnisse bei den Durchstrahlungsaufnahmen werden im wesentlichen nicht durch verschiedene Dicke der Kristallite, sondern durch verschiedenartige BRAGGsche Reflexion hervorgerufen.Read More