Title: Caractérisation des surfaces par réflexion rasante de rayons X. Application à l'étude du polissage de quelques verres silicates
Abstract: La theorie presentee permet d'obtenir une formulation explicite de l'influence des rugosites ainsi que des variations locales de constante dielectrique n2 (dues par exemple a une modification de composition ou de compacite) sur la reflexion rasante d'un faisceau de rayons X monochromatique, dans la mesure ou les rugosites relevent d'une distribution gaussienne et a condition que n2 ne depende que de la profondeur Z par rapport au plan moyen de la surface eclairee. L'analyse des verres silicates polis mecaniquement sur polissoir en poix, a l'aide de suspensions aqueuses d'oxydes divers, revele que la couche de polissage se compose en realite de deux zones bien distinctes. La premiere, tout a fait superficielle, l'epaisseur ne depassant pas quelques dizaines d'angstroms, presente une densite toujours inferieure a celle du coeur de l'echantillon et semble imputable au fluage plastique et a l'hydrolyse de la surface pendant le polissage. La seconde, sous-jacente, s'etend au contraire sur plusieurs centaines d'angstroms et met en jeu un processus soit de densification (silice pure, alumino-silicate) soit de lacunisation (verres a assez forte teneur en ions alcalins). Nous examinons egalement l'influence de la duree du polissage, du type d'oxyde utilise, et (ou) des traitements thermiques effectues apres polissage, sur les divers parametres qui caracterisent ces couches.